退火炉是在半导体器件制造中使用的一种工艺，其包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。热处理是针对不同的效果而设计的。可以加热晶片以激活掺杂剂，将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶片衬底界面，使致密沉积的薄膜，改变生长的薄膜的状态，修复注入的损伤，移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜进入晶圆衬底。

退火炉

连续退火炉是连续退火机组的重要组成部分。根据工艺要求，连续退火炉可分为预热段、加热段、均热段、缓冷段、快冷段、时效段和终冷段等炉段。带钢依靠炉辊驱动在炉内各个区域运行时，常会发生飘曲变形，严重影响了生产的稳定性。

连续退火炉内带钢飘曲变形实质上是薄板的屈曲和后屈曲变形，已有文献分别通过实验、解析法和有限元法等方法对带钢娜曲变形进行了研究。但目前国内外研究带钢飘曲变形时，很少考虑炉辊的热变形，大多采用固定辊形进行研究。实际生产中，带钢在连退炉内运行时，由于炉辊局部与带钢接触，使得炉辊温度沿辊身方向分布不均匀，会发生形状变化。相关研究表明:炉辊形状对带钢飘曲变形影响很大，因此研究炉辊热变形对带钢飘曲变形的影响是十分需要的。由于连退炉结构的封闭性和复杂性。使得实验法和解析法存在局限性。